光学薄膜堆積加工
真空蒸着法及びスパッタリング法により要求規格を満たす膜付けが可能です。
真空蒸着装置(ドーム経Φ1300、Φ1100、Φ620)6台
- 真空蒸着法
反射防止、赤外線カット、紫外線カットに代表される光学特性を有する多層膜を鏡面加工された光学ガラスへ堆積することが可能です。 多層膜の形成には、種々の屈折率を有する膜の選択が可能であることから、様々な光学特性のバリエーションを得ることが可能です。 更に経時変化のない光学特性を有する多層膜を得るためにイオンアシスト蒸着方法の選択も可能です。
スパッタマシーン 1台
- スパッタリング法
反射防止、赤外線カット、紫外線カットに代表される経時変化のない光学特性を有する多層膜を堆積することが可能です。 真空蒸着装置と比較して低温で多層膜を形成することが可能です。
ワイドハンドAR
AR
AR
AR
IR
UVーIR